镀膜常用设备：电子束蒸发、热蒸发。
常用镀膜材料：氧化、氧化铝、氧化铪、ITO、一氧化硅，二氧化硅、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化钛、金、银、铜、铬、铬镍合金、铝、钛。
温度范围：20-300℃。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料,包括真空离子蒸发,磁控溅射,对于溅射状涂层,很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的,您知道在哪里使用薄膜技术吗？薄膜技术已成为现代社会不可或缺的一部分，在其他活动领域也越来越广泛。薄膜技术可以实现顾客的理念，并且给世界带来新的价值。
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